XTPL uzyskało ochronę patentową dla wynalazku "Methods of Dispensing a Metallic Nanoparticle Composition from a Nozzle onto a Substrate" od urzędu patentowego w Korei Południowej.
Jak wskazano, procedura zgłoszeniowa dla tego patentu została rozpoczęta 28 lipca 2020r. Wymogiem formalnym uzyskania patentu jest wniesienie stosownych opłat. W przypadku ewentualnego niespełnienia wymogu, Spółka przekaże odrębny komunikat bieżący.
"Uzyskana ochrona patentowa wpłynie na podniesienie wartości potencjalnej komercjalizacji technologii spółki w zakresie rozwiązań technologicznych spółki dla rynku elektroniki nowej generacji. Opisane zdarzenie stanowi potwierdzenie realizacji przez spółkę strategii budowania rodziny patentowej dla rozwijanej technologii oraz produktów, co stanowić będzie element budujący wiarygodność XTPL wobec potencjalnych klientów przemysłowych" - napisano. (PAP Biznes)
mcb/ asa/
